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Nanotechnologie (Master of Science) >>

  Übung zu Optical Lithography

Dozent/in
PD Dr. rer. nat. Andreas Erdmann

Angaben
Übung
Online
2 SWS, Sprache Deutsch, Für Master AOT verpflichtende Zusatzveranstaltung, für andere Studiengänge freiwillig
Zeit: Di 16:15 - 17:45, BR 1.161; n.V.

Studienfächer / Studienrichtungen
WF AOT-GL ab 1
PF NT-MA 1
WF EEI-BA ab 5
WF EEI-MA ab 1

Zusätzliche Informationen
Erwartete Teilnehmerzahl: 2

Zugeordnet zu: Optical Lithography: Technology, Physical Effects, and Modelling

Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
Startsemester WS 2020/2021:
Kernfach Mikro- und Nanostrukturforschung für MWT (MNF_M1_MWT)
Optical Lithography (OLITHO)
Top-Down Nanostrukturierung (Nano_Top_Down)

Institution: Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente
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