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Elektrotechnik, Elektronik und Informationstechnik (Master of Science) >>
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Halbleitertechnologie I - Technologie integrierter Schaltungen (HLT I - TiS V(AR))- Lecturers
- Prof. Dr.-Ing. habil. Jörg Schulze, Jannik Schwarberg, M. Sc.
- Details
- Vorlesung
3 cred.h, ECTS studies, ECTS credits: 5
nur Fachstudium, Sprache Deutsch
Time and place: Mon 10:15 - 12:45, 0.111
- Fields of study
- WPF BPT-MA-E 1-3
PF EEI-BA-MIK 5-6
WPF EEI-BA-MIK 5-6
PF EEI-MA-MIK 1-4
WPF EEI-MA-MIK 1-4
WF EEI-BA ab 5
WF EEI-MA ab 1
PF INF-NF-EEI 5
WPF ME-BA-MG4 3-6
WPF ME-MA-MG4 1-3
WF NT-MA ab 1
- Contents
- Thema der Vorlesung sind die wesentlichen Technologieschritte zur Herstellung elektronischer Halbleiterbauelemente
und integrierter Schaltungen. Der erste Teil der Vorlesung beginnt mit der Herstellung von einkristallinen Siliciumkristallen. Anschließend werden die
physikalischen Grundlagen der Oxidation, der Dotierungsverfahren Diffusion und Ionenimplantation sowie der
chemischen Gasphasenabscheidung von dünnen Schichten behandelt. Ergänzend dazu werden Ausschnitte aus
Prozessabläufen, wie sie heute bei der Herstellung von hochintegrierten Schaltungen wie Mikroprozessoren oder
Speicher verwendet werden, dargestellt und anhand von Bauelementen (Kondensator, Diode und Transistor) wichtige
Prozessparameter und Bauelementeeigenschaften erläutert.
(automatisch geplant, erwartete Hörerzahl original: 17, fixe Veranstaltung: nein)
- ECTS information:
- Title:
- Technology of Integrated Circuits
- Credits: 5
- Prerequisites
- none
- Contents
- The lecture discusses the fundamental processing steps for manufacturing semiconductor devices and integrated circuits. In the
first part, the production of monocrystalline silicon crystals is described. Then, oxidation, and the doping processes diffusion
and ion implantation as well as the deposition of thin insulating and conducting films are presented. Additionally, process
sequences used in the fabrication of today's ULSI-ICs such as microprocessors and memory modules are described as well as
the impact of process parameters on electron device characteristics.
- Additional information
- Expected participants: 12
- Assigned lectures
- UE: Übung zu Halbleitertechnologie I - Technologie integrierter Schaltungen
-
Lecturers: Jannik Schwarberg, M. Sc., Prof. Dr.-Ing. habil. Jörg Schulze
Time and place: Mon 13:00 - 13:45, 0.111
www: https://www.studon.fau.de/crs3991754.html
- Verwendung in folgenden UnivIS-Modulen
- Startsemester WS 2022/2023:
- Halbleitertechnologie I – Technologie integrierter Schaltungen (HLT I - TiS)
- Technologie integrierter Schaltungen (TIS)
- Department: Chair of Electron Devices
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